博鱼app专利摘要显示,本发明公开了一种半导体结构及其制作方法,属于半导体技术领域。所述半导体结构包括:衬底博鱼app博鱼app,包括并列设置的第一区域和第二区域;垫氮化层,设置在所述衬底上;补偿氮化层博鱼app,设置在所述垫氮化层上;第一浅沟槽,设置在所述第一区域内;第二浅沟槽,与所述第一浅沟槽并列设置在所述第二区域内;绝缘介质博鱼app博鱼app,设置在所述第一浅沟槽和所述第二浅沟槽内,所述绝缘介质的表面与所述补偿氮化层的表面齐平。通过本发明提供的一种半导体结构及其制作方法,提高半导体结构的性能。
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